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Recent advances in plasma etching for micro and nano fabrication of silicon-based materials: a review - Journal of Materials Chemistry C (RSC Publishing) DOI:10.1039/D4TC00612G
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商品詳細情報
| 管理番号 |
新品 ：54686148550
中古 ：54686148550-1 |
メーカー | 35fcd | 発売日 | 2025-05-01 04:31 | 定価 | 12500円 | ||
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| カテゴリ | |||||||||
Recent advances in plasma etching for micro and nano fabrication of silicon-based materials: a review - Journal of Materials Chemistry C (RSC Publishing) DOI:10.1039/D4TC00612G
Recent advances in plasma etching for micro and nano fabrication of silicon-based materials: a review - Journal of Materials Chemistry C (RSC Publishing) DOI:10.1039/D4TC00612G,Waste-derived biochar for water pollution control and sustainable development | Nature Reviews Earth & Environment,Superamphiphobic properties of fluorine doped graphene prepared by RF-PECVD: EIS and first principle study - ScienceDirect,V-belt CoVereD - REIFF Technische Produkte,CO 2 fixation: cycloaddition of CO 2 to epoxides using practical metal-free recyclable catalysts - Chemical Communications (RSC Publishing) DOI:10.1039/D4CC05291A
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